1．真空和表面物理研究

对于通常的真空研究，真空分析质谱计的主要用途是分析真空系统内的残余气体。而对表面研究来说，目前已逐步将真空质谱计和低能电子衍射仪、俄歇电子谱仪、二次离子质谱计、化学分析电子谱仪和场致发射显微镜等仪器联合使用，用来研究低压力下的真空物理过程。通常在10 -9Pa以至更低的压力下进行分压力测量。由于采用的真空系统多数为无油或少油的真空泵，所以一般并不要求质谱计有很宽的质量范围。

2．专用器件（如电子显微镜、X射线管、阴极射线管和大型超高频电真空器件）的残气分析

在这一类应用中，不像表面物理研究那样，需要检测那么低的分压力，而希望仪器具有较宽的工作质量范围，至少具有能检测真空泵油的裂解物的能力。

3．薄膜工艺

制备薄膜时，用真空分析器控制其工艺过程是必要的。在蒸发工艺中，主要是减少残气气氛以防止氧化；在溅射工艺中则重视所充气体纯度，如拉制氩和氧的杂质含量。